CJ係列磁控濺射真（zhēn）空鍍膜（mó）機CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就是用荷（hé）能粒子（通常用氣體正離子）轟（hōng）擊（jī）物體，從而引起物體表麵原子從母（mǔ）體中（zhōng）逸出的現象。早在18…[詳細] |
CJR係（xì）列卷繞式真空鍍膜機（jī）卷（juàn）繞鍍膜設備具有運行平穩、收放（fàng）鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低（dī）、操作（zuò）維護方便、性能穩定等（děng）特點。卷繞係（xì）統采用高精度直流或交流變頻調速（sù），具有運行…[詳細] |
