CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用（yòng）荷（hé）能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體（tǐ），從而引起物體（tǐ）表麵原子從母體中逸出的現象。早（zǎo）在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控（kòng）濺射靶（bǎ）采用（yòng）靜止電磁場，磁場（chǎng）為（wéi）曲線形，均勻電場和對數電場（chǎng）則分別用（yòng）於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能（néng）量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作（zuò）用下，加速飛（fēi）向陰（yīn）極（濺射靶）並以高能（néng）量轟（hōng）擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩（wán）具、車燈反光罩、手機按鍵外殼（ké）以及儀器儀表、塑料（liào）、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及（jí）工（gōng）模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領（lǐng）域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上（shàng）獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在（zài）基片上形成一層濺射（shè）原子與基片原子（zǐ）相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可（kě）以使用不同的（de）材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子（zǐ）輔助源，無需加熱直（zhí）接常溫冷鍍成膜，節能（néng）省電，提高產（chǎn）能。