濺射靶材: 濺射靶材按(àn)形狀分類:矩形(xíng)平麵靶材(cái)、圓(yuán)形平麵靶材、圓柱(zhù)靶材
濺射(shè)靶材按成分分類:單(dān)質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材
平麵靶(bǎ)材利用率比較低(dī),隻有30%左右,沿著環形跑道刻蝕。
靶材冷卻與靶背板
1. 靶(bǎ)功率密度與靶材冷卻:靶(bǎ)功(gōng)率越大,濺射(shè)速度越(yuè)大;靶允許的功率與靶材的性(xìng)質及(jí)冷卻有關(guān);靶材采用直接水(shuǐ)冷,允(yǔn)許的靶功率高。
2. 靶背板 target backplane
使用場合:ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫), In(銦(yīn))等軟金屬靶;靶材太薄、靶材太貴
材質(zhì)要求:
導熱性(xìng)好---常用無氧銅,無氧銅的導熱性(xìng)比紫銅好;強度足夠---太薄(báo),容易變形,不易真空密封。
結構:
空心或者實心結構---磁鋼不泡或泡在冷水中;厚度適(shì)當---太厚,消耗部分磁強;太薄,容(róng)易(yì)變形。