本文從係統結構、參數控製（zhì）和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展（zhǎn）。按結構可分為單室（shì）、雙室和多室真空卷繞（rào）係統，後兩者可解決開卷放氣問題（tí）並分別控製卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型，錐（zhuī）度控製模型可解決薄（báo）膜（mó）褶皺和徑向（xiàng）力分布不均的問題；間接張力（lì）控製無需傳感器（qì），可用內（nèi）置張力控（kòng）製模塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過張力（lì）傳感器精確測（cè）量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍（dù）膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用於製備新型高折射率薄膜、石（shí）墨烯等納米材料和柔性太陽能電池（chí）等（děng）半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究（jiū）現狀及向產業化過渡存在的問題，最後作了（le）簡要分（fèn）析與展望。

　　真（zhēn）空卷繞鍍（dù）膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術（shù）。它涵蓋（gài）真空獲得、機電控（kòng）製、高精（jīng）傳動和表麵分析等多方麵內容。其（qí）重（chóng）點是，在保（bǎo）證鍍膜質量前提下提高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施（shī）在線監控。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜等優點。第一台真空（kōng）蒸發卷繞鍍膜機（jī）1935年製成，現可鍍幅（fú）寬由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包（bāo）裝（zhuāng）和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功能薄膜（mó）方麵，是未來（lái）柔（róu）性電子等行業的主流技術之一（yī）。

　　目前，國際前沿是研究不同製備工藝下功能薄膜特性並完善複合膜層製備。卷繞（rào）鍍膜（mó）機有向大型工業化和小型科（kē）研化方向發（fā）展（zhǎn）的兩（liǎng）種趨勢，國內蘭州真空（kōng）設備（bèi）、廣東中環（huán）真空設備等公司多生產大型工業卷（juàn）繞設備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司（sī）等，主要為科研機（jī）構提供小型或微（wēi）型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍（dù）膜設備分類
　　真空卷對卷設備由抽真空、卷（juàn）繞、鍍膜和電氣控製等係（xì）統組成。據真（zhēn）空室（shì）有無擋板（bǎn），可分單室、雙室和多室結構。單（dān）室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單（dān）但開卷時放氣會（huì）汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板隔成卷繞和（hé）鍍膜室，卷輥與擋板間隙約（yuē）1.5mm，避免了類似開卷放氣問（wèn）題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等（děng）將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射（shè）靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。

　　分隔擋板與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單（dān）主輥和（hé）多主輥卷繞鍍膜機。據電（diàn）機個數（shù），則（zé）可（kě）分為兩電機、三電機和四電機驅動係（xì）統。

        總結與展望

　　真空卷繞鍍膜（mó）因其大麵積、低成本、連續性等特點，比間歇式鍍（dù）膜有很大優勢，廣受國內外研究者和企業關注。當前卷繞鍍膜技（jì）術進展較（jiào）快，解決了鏤空線（xiàn）、白條、褶皺等問（wèn）題（tí），開始用於製備石墨烯、有機太陽能（néng）電池（chí）和透明導電薄膜（mó）等新型功能介質與器（qì）件。故對（duì）製膜過（guò）程和（hé）成膜質量提出了更高（gāo）要求，真空機組主泵選擇從大抽速擴散泵（bèng）發展到無油超（chāo）高真空（kōng）分子（zǐ）泵和低溫泵，開發出了（le）大包角雙冷（lěng）卻輥鍍（dù）膜機以減小薄膜拉伸變形（xíng）。張力控製（zhì）多用（yòng）考慮夾感應張力的收卷模型和單跨非線性動力學的（de）放卷模型。

　　目（mù）前卷繞鍍（dù）膜的精密控製（zhì）有待提高，例如轉印石墨烯時（shí），難（nán）以徹底去除基底和石（shí）墨烯間的熱解膠，且卷繞速度過快或基底較硬引發的切應力會使石墨烯層形成裂（liè）縫或孔洞。又如，真空卷繞發（fā）製備的有機薄膜表麵缺陷多，載流子遷移率較（jiào）低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來應增設薄（báo）膜應（yīng）力等（děng）測控單元，融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和原位聚合等成膜技術，為開發新型有機及其無機複（fù）合功能薄膜和器件提供保（bǎo）障。

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