真空鍍（dù）膜技術是真（zhēn）空應用技術（shù）的一個重要（yào）分支，它已（yǐ）廣泛地應用（yòng）於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械（xiè）、包裝、民用製品、表麵科學以及科（kē）學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發（fā）鍍、濺射鍍、離（lí）子鍍（dù）、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果（guǒ）從真空鍍膜（mó）的目的是（shì）為了改變物質表麵的物理、化學性能的（de）話，這一技術又是真空表（biǎo）麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表 6 所示（shì）。現就其幾個主（zhǔ）要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃或（huò）石英（yīng）表麵上鍍一層或幾層不同（tóng）物質（zhì）的薄膜後，即可成為高反射或無反射（即增透膜）或者作任（rèn）何預（yù）期比例的反射或透射材料，也可以作（zuò）成對某種波長的吸收，而（ér）對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望（wàng）遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築（zhù）物的大窗（chuāng）鍍膜茉莉（lì），都很需要。增透膜則大量用於照相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用（yòng）於照相機和電視攝象機（jī）的（de）鏡頭上。

        在電子學方麵（miàn）真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括（kuò）存貯器、運算器、告訴邏輯元件（jiàn）等都要采用導（dǎo）電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路（lù）的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁（cí）盤、半導體激光器（qì），約（yuē）瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各（gè）種薄膜（mó）。

        在（zài）顯示器件方麵，錄（lù）象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電（diàn）膜（mó）、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻，在塑料上（shàng）蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造磁（cí）致伸縮的起聲元件等等。真空（kōng）蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此（cǐ）外還可以對（duì）珠寶、鍾（zhōng）表外殼表麵、紡織品（pǐn）金屬花紋、金絲銀（yín）絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺射鍍或離子鍍（dù）對刀具、模具等製造超（chāo）硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製品，如（rú）不鏽（xiù）鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托（tuō）架、樓梯欄杆等目前（qián）正在盛行。