CJ係列磁控濺射真空鍍膜機(jī)
日期:2016-01-16 13:28:37 人氣:65379
CJ係(xì)列磁控(kòng)濺(jiàn)射真空鍍膜機(jī)的磁控濺射工(gōng)作原理,所謂“濺射”就(jiù)是用荷(hé)能(néng)粒子(通常用氣體正(zhèng)離子)轟擊物(wù)體,從(cóng)而引(yǐn)起物(wù)體(tǐ)表麵原子從(cóng)母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實(shí)驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和(hé)對數電場則分別用於平麵靶和同(tóng)軸圓柱靶。電子(zǐ)在電場作用下,加速飛向基片的過程中與(yǔ)氬原子發生碰撞。若電子具有足(zú)夠的能量(約為30ev)時,則電離出Ar+並產生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)並以高能量轟擊靶表麵,使靶材(cái)發生濺射。
廣泛(fàn)應(yīng)用於家電(diàn)電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀(yí)器儀表、塑料、玻璃、陶(táo)瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層,在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領(lǐng)域有優勢。
1)、膜厚(hòu)可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜,並且濺射鍍膜(mó)可以在(zài)較大的表麵上(shàng)獲得(dé)厚度(dù)均勻的膜層;
2)、薄膜與基片的附著力強。部分(fèn)高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合(hé)的偽擴散層;
3)、製備特殊材料的薄膜,可以使用不同的材料同(tóng)時濺(jiàn)射製備混合膜、化合膜,還可濺射成TiN仿金膜;
4)、膜層純度(dù)高(gāo),濺射膜層(céng)中不會(huì)混入坩(gān)鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助(zhù)源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能省電(diàn),提高產能。
CJ係列磁控濺射真(zhēn)空鍍膜(mó)機(jī) | | | | | |
型號 | CJ-600 | CJ-800 | CJ-1000 | CJ-1200 | CJ-1400 | CJ-1500 | CJ-1600 |
真空室(shì)尺寸 | Φ600×800MM | Φ800×1000MM | Φ1000×1200MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1500×1500MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT800擴散泵機組(zǔ) | KT630擴散泵(bèng)機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 直流或中頻電源、鍍膜輔助離子專用電源 |
充氣係統 | 質量流量計(jì) | 質量(liàng)流量計 | 質量流量計 | 質(zhì)量流量計 | 質量流量計 | 質量流量計 | 質量流量計 |
控製方式 | 手動(dòng)或全自動 | 手動或全自動 | 手動或全自動(dòng) | 手動或全自動 | 手動或全自動(dòng) | 手動或全自動 | 手動或全(quán)自動 |
極限真空 | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa | 5X10-3Pa |
備注 | 以上設備(bèi)參數僅做參考,具體均(jun1)按客戶實際工藝要(yào)求(qiú)設(shè)計訂做 |