GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人(rén)氣:24001
GSF高精密電子束蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機的工作原理是將(jiāng)膜(mó)材放入水冷銅(tóng)坩(gān)堝中,直接利用(yòng)電子束(shù)加熱,使膜材中的原子或分子從表麵汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電(diàn)阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大(dà)、蒸(zhēng)發速度快,製成的(de)薄膜純(chún)度高。
光學(xué)鍍膜設備可鍍製層數較多的短波通、長(zhǎng)波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜(mó)係,能夠實(shí)現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物、化合物(wù)及其他(tā)高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學(xué)膜厚自動控製係統(tǒng),采用(yòng)PLC與工業電腦配合自(zì)主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全(quán)自(zì)動控製,可以實(shí)現無人值守,從而(ér)提高了工作效率和(hé)保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係(xì)統加(jiā)配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學(xué)膜係製備提供了必要(yào)的真空條件保障(zhàng)。
3)、蒸發分布穩(wěn)定、性能可靠的E型電(diàn)子槍,優化設(shè)計的蒸(zhēng)發(fā)源與工件架之間的位置關係(xì),為精密膜(mó)係的實現調工了(le)膜料蒸發分布方麵的保障(zhàng)。
4)、平穩而(ér)高速旋(xuán)轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光(guāng)譜曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模工業生產(chǎn)高端要求的廠(chǎng)商使(shǐ)用。
GSF高精(jīng)密電(diàn)子(zǐ)束蒸發光學(xué)真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺(chǐ)寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵(bèng)機組 | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍(huò)爾離子源 |
充氣係統 | 壓強控(kòng)製(zhì)儀 |
控製(zhì)方式 | 半自動或全自動 |
膜厚監控係統 | 石英晶(jīng)體膜厚監控(kòng)係統、光學膜厚監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真(zhēn)空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考(kǎo),具(jù)體均按客(kè)戶實際工藝要求設計訂做 |