CJ係（xì）列（liè）磁控濺（jiàn）射真空鍍膜機的磁（cí）控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體（tǐ），從而引起物體表（biǎo）麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止（zhǐ）電磁場，磁場為曲線形（xíng），均勻電場和對數電場（chǎng）則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電（diàn）子在電場作用下，加（jiā）速飛向基（jī）片的過程中（zhōng）與（yǔ）氬原子發生碰撞。若電子具有（yǒu）足夠的（de）能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺（jiàn）射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣（guǎng）泛應用於家電電器、鍾（zhōng）表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩（zhào）、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑（sù）料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和（hé）重複性好。能夠（gòu）可靠的鍍製預（yù）定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以（yǐ）在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜（mó）層；
2）、薄膜與基片的附著（zhe）力強。部（bù）分高能量的濺射原子產生不同程（chéng）度的注入現象，在基片上形成一層濺射原（yuán）子與基片原子（zǐ）相互溶合的（de）偽擴散層；
3）、製備特殊（shū）材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿（fǎng）金（jīn）膜；
4）、膜（mó）層（céng）純度高，濺射膜（mó）層中（zhōng）不會混入坩鍋加熱（rè）器材料的成份（fèn）。
5 )、裝備低溫離子輔助源（yuán），無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。