磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片（piàn），鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同（tóng）在真空腔中。蒸發鍍膜一般是（shì）加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並（bìng）且沉降在基片表麵，通過成（chéng）膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或（huò）高能（néng）激光轟擊靶材，並使表麵組分以（yǐ）原子團或離子形式被濺（jiàn）射出來，並且最終沉（chén）積在基片表麵，經曆成膜過程，最終（zhōng）形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操（cāo）作
1、開（kāi）水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真（zhēn）空計電源，真空計檔位置V1位置（zhì），等待其值小（xiǎo）於10後，再（zài）進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵（bèng）、預抽，開渦輪分子泵電源、並（bìng）啟動，真空計開關換到V2位置，抽（chōu）到小（xiǎo）於2為止，約（yuē）需20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關（guān）預抽，開前級泵和高真空閥（fá）繼續抽真空，抽真空到達一定程度後（hòu）才能開右邊的（de）高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍（qiāng）電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和（hé）電（diàn）子槍控製Ⅱ電源（yuán）：按電子槍控製Ⅰ電源、延時（shí）開關（guān），延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護（hù）燈滅，若後門未關（guān）好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為（wéi）20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉（zhuǎn）電流在1~1.7之間（jiān）擺動。

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