對於真空(kōng)鍍膜機設備的(de)分類,到底了解多少?
真空鍍膜機主要指一類需要在較(jiào)高真(zhēn)空度下進行的鍍(dù)膜設備,包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺(jiàn)射沉積鍍膜機等很多種。
主(zhǔ)要是分(fèn)成蒸(zhēng)發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要(yào)鍍膜的被成為基片(piàn),鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔(qiāng)中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使(shǐ)表麵組分以原子團(tuán)或離子(zǐ)形式被蒸發(fā)出來,並且沉降在基(jī)片表麵,通過成膜過程形成薄膜。
真空鍍膜(mó)機對於濺射類(lèi)鍍膜,可以簡單理(lǐ)解為利用(yòng)電子或高能激光轟擊靶材,並使表麵組分以原子團或離子(zǐ)形式被濺射出來,
並且最終(zhōng)沉積在基片表麵,經曆成膜過程,最終形成薄(báo)膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們(men)的組合製成的雙層水冷結構(gòu)。
根據工藝要(yào)求選(xuǎn)擇不同規格及類(lèi)型鍍膜設備,其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備(bèi)、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真(zhēn)空鍍膜設備、離子鍍真(zhēn)空鍍膜設備、磁(cí)控反應濺射真(zhēn)空鍍膜設備、空(kōng)心陰極離子鍍和多(duō)弧離子鍍(dù)等。
夾具(jù)運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式,用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求,轉(zhuǎn)動的速度範(fàn)圍及轉動精度:普通可調及變頻調速(sù)等(děng)。