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氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是極其重要的,通過機械結(jié)構設計,使(shǐ)氣體密(mì)度的變化率在濺射(shè)沉積區域內的盡量小。
而(ér)在區(qū)域外,使係統的流導盡量的大(dà),以(yǐ)提高氣(qì)體的利用率和抽氣(qì)係(xì)統的效率。
控製氣體分布的機械部件或結構包(bāo)括(kuò)布氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三個部分。