浦元真空帶你了解真空蒸發鍍膜法的概念:
1.基(jī)本原理:真空蒸發鍍膜法(簡稱真空(kōng)蒸鍍)是在真空室中加熱蒸(zhēng)發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分(fèn)子從表麵氣化逸出,形成蒸(zhēng)汽(qì)流入射到固體(稱為襯(chèn)底或(huò)基(jī)片)表麵凝結形成固態薄膜(mó)的方(fāng)法。
2.真空蒸(zhēng)鍍時尤其是對真空(kōng)環(huán)境(jìng)的(de)要求更嚴格其原因(yīn)有:
A.防止在高溫下因空氣分子和蒸發源發生反應;
B.防止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與(yǔ)空氣分子碰撞;
C.防止空(kōng)氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物;
3.設備:真空鍍(dù)膜室和真空抽氣係統兩大部分組成。真空鍍膜室內裝有(yǒu)蒸(zhēng)發源、被(bèi)蒸鍍材料、基片支架及基片等。