真空蒸發鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法,Vacuum Evaporation) 是指(zhǐ)在一定的(de)真空條件下,利(lì)用高溫(wēn)加熱蒸鍍材料(金屬(shǔ)合金或金屬氧化物)到一定溫度條(tiáo)件下,
使其原子或分子從表麵汽化逸出,形成蒸汽流,並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。
由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料(liào)而產生(shēng),所以又稱熱蒸發法。蒸發源(yuán)作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件,
大多數蒸發材料都要求(qiú)在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源(yuán)的不(bú)同(tóng)可分為電阻法(fǎ)、電子束蒸發法(fǎ)、高頻感(gǎn)應法和激光蒸發法等。
目前,采用真(zhēn)空蒸鍍(dù)法生產(chǎn)鍍膜(mó)玻璃的均是采用間歇式生產。