磁控濺射鍍膜技術介紹
作者: 來源: 日期:2020-06-08 9:18:10 人氣:16041
磁控濺射鍍膜設備是一(yī)種具有結構簡單、電器控製穩定性好等(děng)優點(diǎn)的真(zhēn)空鍍膜機,其工藝技術的選擇對薄膜的性(xìng)能具有重要影響。
磁控濺射(shè)鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流程如下:
陶瓷片→超聲(shēng)清洗→裝夾→抽本底真空(kōng)→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射(shè)→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表(biǎo)麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍膜設備為基礎,選用合適的靶材和濺射工藝(yì),製出超硬的耐磨鍍層,可以實現材(cái)料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性;
同時,利用NCVM光學膜結構設計,設計出各層不同折射率材料(liào),可以調配出任意顏色,使得陶瓷不僅硬度高、強度高,具備外觀(guān)件時尚、美觀的特點,而(ér)且不會屏蔽電(diàn)磁信號。
磁控濺(jiàn)射鍍膜設備配合NCVM工藝,能夠實現對於陶瓷電子消(xiāo)費品的表麵裝飾處理,在保證陶瓷強度(dù)和(hé)硬度的同時,也(yě)能夠提升其美觀性和藝術性,更好地滿足消費者的個性化需求。