真空鍍(dù)膜設備多弧離子(zǐ)鍍膜上的創新方法,所謂多弧離(lí)子鍍膜(mó)就是置待鍍材料和被鍍基板(bǎn)於室內,
真空鍍膜機多弧離子鍍膜采(cǎi)用一定方法加(jiā)熱待鍍(dù)材料(liào),使之蒸發或升華,並飛行濺射到被鍍基板(bǎn)表麵凝聚成(chéng)膜的工藝。
多弧離子鍍膜的方法,在條件(jiàn)下成膜有很多優點,可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板(bǎn)過程中於分子的(de)碰撞,
減少氣體中(zhōng)的活性(xìng)分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以(yǐ)及減(jiǎn)少成膜(mó)過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和(hé)與基板的附著力。
真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不足(zú),且各項技術指標都優於傳(chuán)統工藝,在(zài)五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。
催化液和傳統處理工藝相比(bǐ),在(zài)技術上有哪些創新?
1、多(duō)弧離子鍍膜不用電、降低(dī)了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜機多弧(hú)離子鍍膜鉻的三分之一,不鏽鋼的四分之一,可反(fǎn)複(fù)利用,大(dà)大降低了成本。
2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即(jí)成”,需要(yào)再加工時不經任何處理。