真空鍍膜機主要指一（yī）類需要在（zài）較高真空度下進（jìn）行的鍍膜，具（jù）體包括很（hěn）多種類（lèi），包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分（fèn）子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。今天，昆山浦元真空技術工程有限公司為您介紹以下幾種鍍（dù）膜機工作原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空（kōng）的條件下（xià），由陰極中通入氬器氣（1-10-2）在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發生輝（huī）光放電，在空心（xīn）陰極內產生（shēng）低壓等離子體放電，陰（yīn）極溫度升高到2300-2400K時，由（yóu）冷陰（yīn）極放電轉為熱陰極放電，開始熱電子（zǐ）發射，放電（diàn）轉為（wéi）穩定狀態。通入反應氣體，可以（yǐ）製化合膜。

        二（èr）、測（cè）控濺射工作原理

              先將真空室預抽至10-3Pa，然後通入氣體（如（rú）氬氣），氣壓（yā）為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產生輝光放電，電子在電場正作用下加速（sù）飛向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另一個電子；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改（gǎi）變電子的運動方向，以電磁場（chǎng）束縛和延長電子（zǐ）的運動軌跡，從（cóng）而（ér）提高電子對工作氣體的電離幾率。

        三、多弧離子鍍工作原理

               其工作原理為冷陰極自持（chí）弧光放電（diàn），其物理（lǐ）基礎為場致發射。被鍍材料接陰極（jí），真（zhēn）空室接陽極，真空室抽（chōu）為高（gāo）真空時，引發電極啟（qǐ）動器，接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形（xíng）成穩（wěn）定的電弧放電，陰極表（biǎo）麵布滿飛速遊動的（de）陰極斑（bān），部分離子（zǐ）對陰極斑（bān）的轟擊（jī）使其變成點蒸發源，以若幹個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸發式鍍膜機

               膜材即要鍍的材料放於蒸發（fā）舟中，置於真空室（shì）中，抽到（dào）一定真空時，通過電阻加熱膜材，使（shǐ）其蒸發，當蒸（zhēng）發分子的平均自由程（chéng）大（dà）於蒸發源至基片的線性尺寸時，原子和分（fèn）子從蒸發源中逸出後，到達基片（piàn）形成膜。為了使膜厚均勻，可（kě）以利用電機（jī）帶動基片旋轉（zhuǎn），並用膜厚儀控製膜厚，製出優（yōu）質膜。

        五、E型（xíng）槍工（gōng）作原理

               陰（yīn）極（jí）燈絲加熱後發射具有0.3    EV初動能（néng）的熱電子，這些熱電子在燈絲陰極與陽極之（zhī）間的（de）電場作用下加速並會聚（jù）成束狀。在電磁線圈（quān）的磁場中，電子束沿E x B的方向偏（piān）轉，通過陰極時，電（diàn）子的能量提高到10KV，通過陽極電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上，轟擊膜材使其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件放（fàng）在低壓（yā）輝光放電（diàn）的陰極上，通入適當氣（qì）體，在一定溫度下，利用化學反應和離子轟擊相結合的過程，在工件表麵獲得塗層。

       昆山（shān）浦元真空技術工程有限公司將膜層工藝、設（shè）備研發（fā）、製造生產、銷售、服務集於一體，致力於為企業、科研院（yuàn）所、薄膜塗（tú）層加工中心等提供有競爭（zhēng）力的綜合解決方案和服（fú）務。我公司將竭誠為您服務，歡迎國內（nèi）外新（xīn）老客戶蒞臨參觀、指導並洽談業務！