化學氣相沉積是一種製備材料的氣相生長方法，它是把（bǎ）一種或幾種含有（yǒu）構成薄膜元素的化合物、單（dān）質氣體通入放置有基材的（de）反應室，借助空間氣相化學（xué）反（fǎn）應在（zài）基體表麵上沉積固（gù）態薄膜的工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱（chēng）CVD)是反應物質在氣態條件（jiàn）下（xià）發生化學反應，生成固態物質沉積在加（jiā）熱的固態基體表麵，進而製（zhì）得固體材（cái）料的工藝技（jì）術。它本（běn）質上（shàng）屬於原子範疇的氣（qì）態傳質過程。與之相對（duì）的是物理氣相沉積（PVD）。