如何掌（zhǎng）控（kòng）真空鍍膜的均勻性
麻豆app下载入口先來認識（shí）下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機（jī）
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程（chéng）中檢查漏氣（qì）情況與各真空（kōng）泵的（de）性能；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達（dá）標，同時排除（chú）細小的（de）漏孔；
3、產（chǎn）品（pǐn）試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保（bǎo）證的話就繼續打（dǎ）樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄（lù），並有記錄人簽字以（yǐ）及有使用部門或工程部門的（de）人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的不（bú）同分為很多種（zhǒng）類（lèi），僅僅因為都需（xū）要高真空度而擁（yōng）有統一名稱（chēng）。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性這個概念本身（shēn）也會隨（suí）著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵（miàn）分別（bié）說一下：

均（jun1）勻性主要體現在3方（fāng）麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上（shàng）看（也就是1/10波長作為單（dān）位，約為100A），真空（kōng）鍍膜的均勻（yún）性（xìng）已經相當好，可（kě）以輕鬆將粗糙度控製在可見光（guāng）波長的1/10範圍內，也就是（shì）說對於多（duō）弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說（shuō）要實現10A甚至1A的表麵平整，是（shì）現在（zài）真（zhēn）空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產（chǎn）生不均勻（yún）特（tè）性，SiTiO3薄膜，如果濺（jiàn）控濺射鍍膜機（jī）過程不科學，那（nà）麽實（shí）際表麵的組（zǔ）分並（bìng）不是（shì）SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍（dù）膜的技術含量所在。
3、晶格有（yǒu）序度的均勻性：這決定了薄（báo）膜是（shì）單晶（jīng），多晶，非晶，是真空（kōng）鍍膜技（jì）術中的熱點問題。 

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